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2月21日光刻机(胶)板块较上一交易日上涨0.04%,世名科技领涨。当日上证指数报收于3306.52,上涨0.49%。深证成指报收于11968.6,上涨0.12%。光刻机(胶)板块个股涨跌见下表:

从资金流向上来看,当日光刻机(胶)板块主力资金净流出3.01亿元,游资资金净流入1.47亿元,散户资金净流入1.55亿元。光刻机(胶)板块个股资金流向见下表:

北向资金方面,当日光刻机(胶)板块北向资金持股市值为20.77亿元,减持0.31亿元。其中增持最多的是普利特,增持了0.18亿元。减持持最多的是新莱应材,减持了0.3亿元。光刻机(胶)板块北向资金持股变动明细见下表:


关键词: 资金净流出 世名科技